时间:2023-07-19 04:58:37作者:大毛
上海微电子或将推出duv光刻机用于28nm芯片
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刻机是一种高度精密的半导体制造设备,用于制造芯片和集成电路等微细
荷兰asml光刻机
4寸单面光刻机
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