以目前的投入国产光刻机还需要多久才能追上目前国际主流

euv受限asml中国展示duv光刻机可生产7nm及以上制程芯片

作为现今最先进的芯片制造设备,极紫外光刻机是唯一能够生产7nm以下

需要用到一台顶尖的euv光刻机设备,才可以制造7nm euv,5nm等先进制程

媒体走访中芯国际7nm工艺研发多时缺光刻机