国产euv光刻胶技术指标达到20nm线宽,支持7nm工艺节点.
国产光刻胶自给率:euv 0%,arf 2%,krf 6%
日企大力投资光刻胶等关键euv材料
三星首次采用韩国本土euv光刻胶 打破日企垄断-icspec
图片内容是:EUV光刻胶
国产光刻胶自给率:euv 0%,arf 2%,krf 6%
华科官宣!国产euv光刻胶传来好消息,日企不愿看到的结果出现了!
中国科研团队完成新型光刻胶技术验证:为euv光刻胶开发做技术储备
光刻胶
euv光刻机里的低调王者
国产euv光刻胶技术指标达到20nm线宽,支持7nm工艺节点.
国产光刻胶自给率:euv 0%,arf 2%,krf 6%
日企大力投资光刻胶等关键euv材料
三星首次采用韩国本土euv光刻胶 打破日企垄断-icspec
国产光刻胶自给率:euv 0%,arf 2%,krf 6%
华科官宣!国产euv光刻胶传来好消息,日企不愿看到的结果出现了!
中国科研团队完成新型光刻胶技术验证:为euv光刻胶开发做技术储备
光刻胶
euv光刻机里的低调王者