世界上最先进的euv光刻机为什么只有荷兰阿斯麦公司做出来了

系统方面,长春光机所突破了超高精度非球面加工与检测,极紫外多层膜

asml将为光刻机提供新型euv 防护膜,透光率可达90.6%

三星电子开发出透光率达88的euv薄膜

半导体设备国产化发展趋势,市场需求强大,国外企业技术封锁