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深紫外光刻机

时间:2023-05-05 15:05:01作者:大毛

五毛美图【深紫外光刻机】包含台媒台积电euv光刻机采购破50台远超三星,光刻机-紫外曝光机,近日,asml新一代euv(极紫外)光刻机twinscan nxe:3600d的研发进展曝光,图形转换及纳米压印系统光刻机等图片的集合。
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全球光刻机巨头asml:对中国出口光刻机保持开放态度

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单面对准紫外光刻机 mjb4

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19亿一台赚翻asml新一代紫外光刻机将具备年产70部能力

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其使用极紫外光技术,可以做 7nm 和 5nm 芯片,是当前最先进的光刻机

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技术指标:1,宽带光源365,紫外接近,接触式光刻,可实现双面对准.

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