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中国的光刻机目前处于什么水平
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可分为步进投影和扫描投影光刻机两种,分辨率通常七纳米至几微米之间
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摩尔定律再续,asml完成1纳米光刻机设计,euv光刻机为何如此难造?
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euv光刻机制造难度大曝光外媒再次豪言全球仅asml能造
图片内容是:7纳米光刻机
![型号:nxe:3400b 类型:极紫外光刻机 制程:7纳米和5纳米 效率:1小时125 7纳米光刻机](https://img.wumaow.org/upload/tu/110566248.jpg)
型号:nxe:3400b 类型:极紫外光刻机 制程:7纳米和5纳米 效率:1小时125
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![鸿海青岛高阶封测厂采用首台纯国产光刻机预计年产能将达36万片晶圆 7纳米光刻机](https://img.wumaow.org/upload/tu/110566252.jpg)
鸿海青岛高阶封测厂采用首台纯国产光刻机预计年产能将达36万片晶圆