化学气相沉积过程,两步都是在同一台设备实现
cn108220923a_化学气相沉积设备在审
优点 化学气相沉积膜层致密,结合力强,厚度比较均匀,膜层质量
cn102282291a_化学气相沉积用原料及使用了该原料的含硅薄膜形成方法
图片内容是:化学气相沉积法流程图
cn108220923b_化学气相沉积设备
采用化学气相沉积法进行ncnts/pssf的合成,制备工艺流程图如图1所示
专业技术制备 单壁/双壁碳纳米管垂直阵列(化学气相沉积法生长)
等离子体化学气相沉积(pecvd)工艺
两种化学气相沉积系统示意图.