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3纳米光刻机

时间:2022-09-11 12:43:28作者:大毛

五毛美图【3纳米光刻机】包含摩尔定律再续,asml完成1纳米光刻机设计,euv光刻机为何如此难造?,3年160台光刻机荷兰asml已经摊牌台积电暂时领先,可分为步进投影和扫描投影光刻机两种,分辨率通常七纳米至几微米之间,国产光刻机再传新消息等图片的集合。
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