摩尔定律再续,asml完成1纳米光刻机设计,euv光刻机为何如此难造?

不需euv光刻机也能生产5nm芯片半导体技术迎来重大突破

不只是光刻机,国产巨头攻克5nm蚀刻技术,台积电第一个下单

原创奇袭荷兰asml日企攻克技术壁垒绕开euv光刻机实现5nm

光刻机双工件台全球唯二的华卓精科登陆科创板--受益标的分析