三井化学在全球率先商业化生产euv薄膜已获asml许可
"在芯片制造过程中,有这么一项步骤:利用紫外线去除晶圆表面的保护膜
芯片之争asml断供duv光刻机背后的秘密
asml着手为euv开发光罩护膜以降低缺陷
图片内容是:阿斯麦膜
asml将为光刻机提供新型euv 防护膜,透光率可达90.6%
三星电子开发出透光率达88的euv薄膜
光刻机比原子弹还稀有全球仅2个国家掌握其技术制造它太难了
首页 电脑 泛林表示, 全新的干膜光刻胶技术将有助于提高euv光刻的
asml在介绍产品和业务亮点时提到,期内在euv光刻业务领域,光罩保护膜