目前国内芯片工艺比较落后,比如光刻机(简单理解为决定芯片多少纳米)

中国要造出5nm的光刻机需要多长时间呢?

型号:nxe:3400b 类型:极紫外光刻机 制程:7纳米和5纳米 效率:1小时125

光刻机制造芯片的工艺都是纳米级别,世界上最先进的荷兰euv光刻机

光刻机 价格 - 2020年最新商品信息聚合专区 - 百度爱采购