最终,在asml和台积电的通力合作下,率先将193纳米浸润式光刻机生产

国产光刻机技术获突破,11纳米arf光刻机将于年内推出,深紫外euv曝光机

国产光刻机来了未来可突破7纳米美还敢拿芯片卡中国脖子吗

也能加工5纳米!买不到euv,可以考虑尼康新一代arf浸入式光刻机

中国目前最好的的光刻机厂商,是上海微电子公司, 他们的90纳米光刻机