干法刻蚀:把硅片表面暴露于气态中,产生等离子体,等离子体通过光刻胶

有用 等离子刻蚀操作流程

等离子体刻蚀

中国等离子体刻蚀机取得技术突破芯生产新征程

(a)电感耦合等离子体刻蚀设备示意图;(b)实拍图;(c)亚表面损伤检测

光刻与等离子体刻蚀技术

等离子体刻蚀

对战百亿巨头拉姆研究半导体刻蚀赛场中微公司赶超的底气何在

等离子表面刻蚀解决方案