离子束刻蚀示意图 2

一种基于聚焦离子束刻蚀制备的范德华激元材料微纳结构及其制备方法

图 9 离子束刻蚀产生侧壁再沉积层示意图 (a)刻蚀产生

离子束刻蚀

离子束刻蚀速率影响因素 a.被刻蚀材料种类 b.离子能量 c .

离子源为镓离子,离子束能量设定为30kv,最小刻蚀电流为1pa,最小分辨率

离子束刻蚀沉积系统

图23 ga 离子束fib制备tem样品过程(提出至最终减薄)[22]图24 前端

物理 光子晶体ppt 逐层叠加法: 结合电子束刻蚀技术,反应离子束刻蚀技