五毛美图【离子束刻蚀】包含图 9 离子束刻蚀产生侧壁再沉积层示意图 (a)刻蚀产生,离子束刻蚀速率影响因素 a.被刻蚀材料种类 b.离子能量 c .,离子源为镓离子,离子束能量设定为30kv,最小刻蚀电流为1pa,最小分辨率,离子束刻蚀沉积系统等图片的集合。