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下图显示了各向同性蚀刻和各向异性蚀刻在方向上的差别此外,在先进
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当带有与 110>方向相准直的掩膜的(100 )面硅片放到 各向异性刻蚀剂中
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刻蚀剖面:刻蚀后图形的侧壁形状 各向同性 各向异性 各向异性对
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基于石墨烯的各向异性刻蚀技术
图片内容是:各向异性刻蚀
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碲镉汞p型接触孔低损伤干法刻蚀技术研究
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钒的氧化物各向异性刻蚀的方法与流程
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铌酸锂和钽酸锂的等离子刻蚀
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有两种基本的刻蚀剖面:各向同性和各向异性刻蚀剖面.
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为增强碱液刻蚀的各向异性特征,制绒工艺刻蚀速度必须要低,如2μm/min
下图显示了各向同性蚀刻和各向异性蚀刻在方向上的差别此外,在先进
当带有与 110>方向相准直的掩膜的(100 )面硅片放到 各向异性刻蚀剂中
刻蚀剖面:刻蚀后图形的侧壁形状 各向同性 各向异性 各向异性对
基于石墨烯的各向异性刻蚀技术
碲镉汞p型接触孔低损伤干法刻蚀技术研究
钒的氧化物各向异性刻蚀的方法与流程
铌酸锂和钽酸锂的等离子刻蚀
有两种基本的刻蚀剖面:各向同性和各向异性刻蚀剖面.
为增强碱液刻蚀的各向异性特征,制绒工艺刻蚀速度必须要低,如2μm/min