
干法刻蚀是亚微米尺寸下刻蚀器件的主要方法.

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蚀刻主要分前后段,刻蚀技术按工艺分类可分为湿法刻蚀与干法刻蚀
图片内容是:干法刻蚀

微纳加工技术湿法腐蚀与干法刻蚀

【发明专利】一种相变材料的干法刻蚀方法不可交易

刻蚀的基本原理 干法刻蚀过程示意 离子轰击 掩膜 衬底

干法刻蚀是芯片制造领域最主要的表面材料去除方法,拥有更好的剖面

2,干法刻蚀