电子束刻蚀系统

曝光和显影,在抗蚀剂膜上复印出所需的图形,或者用电子束直接描绘在抗

反应离子刻蚀

200nm的pmma上做的光栅结构ebl在pmma上刻蚀50nm圆形阵列

广泛应用于电子显微镜,微波管,电子束刻蚀,电子束焊接,x射线管和自由