五毛美图【光刻蚀】包含第八章 光刻与刻蚀工艺.ppt 79页,干法刻蚀:把硅片表面暴露于气态中,产生等离子体,等离子体通过光刻胶,半导体设备中的核心光刻机占24刻蚀机占20我国技术如何,uv压印光刻刻蚀工艺研究等图片的集合。